Главная / Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков / Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника тр

Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника требуется 6,4 мкс, а на пластине размещается 144 СБИС?

вопрос

Правильный ответ:

41
Сложность вопроса
73
Сложность курса: Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков
50
Оценить вопрос
Очень сложно
Сложно
Средне
Легко
Очень легко
Комментарии:
Аноним
Я преподаватель! Немедленно уничтожьте сайт vtone.ru с ответами по интуит. Пишу жалобу
30 июн 2019
Оставить комментарий
Другие ответы на вопросы из темы аппаратное обеспечение интуит.