Главная / Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков / Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника тр

Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника требуется 3,2 мкс, а на пластине размещается 180 СБИС? Ответ введите с точностью до одного знака после запятой.

вопрос

Правильный ответ:

25,6
Сложность вопроса
84
Сложность курса: Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков
50
Оценить вопрос
Очень сложно
Сложно
Средне
Легко
Очень легко
Комментарии:
Аноним
Спасибо за решениями по intiut'у.
09 дек 2019
Аноним
Если бы не опубликованные подсказки - я бы не осилил c этими тестами интуит.
27 ноя 2017
Аноним
Это очень заурядный вопрос по интуиту.
07 янв 2017
Оставить комментарий
Другие ответы на вопросы из темы аппаратное обеспечение интуит.