Главная / Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков / Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника тр

Сколько часов нужно для экспонирования в электронолитографическом комплексе изображения шаблона одного из топологических слоев сверхбольшой интегральной схемы (СБИС), состоящего из 160 млн. прямоугольников, если: на экспонирование одного прямоугольника требуется 1,2 мкс, а на пластине вмещается 400 СБИС? Ответ введите с точностью до одного знака после запятой.

вопрос

Правильный ответ:

21,3
Сложность вопроса
76
Сложность курса: Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков
50
Оценить вопрос
Очень сложно
Сложно
Средне
Легко
Очень легко
Комментарии:
Аноним
Экзамен прошёл на 4 с минусом. Спасибо за ответы
07 окт 2019
Аноним
Спасибо за ответы по интуит.
17 фев 2019
Аноним
спасибо
29 июн 2016
Оставить комментарий
Другие ответы на вопросы из темы аппаратное обеспечение интуит.