Главная /
Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков /
Вычислите коэффициент усиления напряженности электрического поля света в окрестности наночастицы на расстоянии 1 нм от ее поверхности в условиях локализованного плазмонного резонанса, если радиус наночастицы 200 нм, мнимая часть ее диэлектрической постоян
Вычислите коэффициент усиления напряженности электрического поля света в окрестности наночастицы на расстоянии 1 нм от ее поверхности в условиях локализованного плазмонного резонанса, если радиус наночастицы 200 нм, мнимая часть ее диэлектрической постоянной
= 1,3, диэлектрическая постоянная среды
= 2,5. Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.
вопрос
Правильный ответ:
6,02
Сложность вопроса
38
Сложность курса: Наноэлектронная элементная база информатики на основе полупроводников и ферромагнетиков
50
Оценить вопрос
Комментарии:
Аноним
Экзамен прошёл на 5. спс
14 сен 2020
Аноним
Благодарю за тесты по intuit.
15 фев 2020
Другие ответы на вопросы из темы аппаратное обеспечение интуит.
-
#
Какова продолжительность периода считывания информации в трековой памяти, если скорость перемещения доменов в ферромагнитной нанопроволоке составляет
, а длина каждого домена
?
-
#
С помощью зондового наноструктурирования задумали сформировать наноразмерное изображение эмблемы и названия фирмы. Для этого острием нанозонда СТМ надо переместить
атомов и молекул. Сколько часов работы СТМ требуется для этого, если на перемещение одного атома (молекулы) и на контроль правильности перемещения в среднем затрачивается
секунд?
= 8400;
= 2,5 c. Ответ введите с точностью до одного знака после запятой.
-
#
Рассчитайте электрический потенциал (в мВ) наноостровка одноэлектронного транзистора с двумя затворами при известных значениях электрических емкостей между наноостровком и электродами (
,
,
и
) и заданных напряжениях на затворах (
) и между истоком и стоком (
).
. Ответ введите с точностью до первого знака после запятой.
-
#
Рассчитайте время задержки (в нс) распространения сигнала в линии межсоединения сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) при известных значениях диэлектрической постоянной и толщины слоя изолятора (
и
), толщины и удельного электрического сопротивления слоя металлизации (
и
) и длины межсоединения (
).
= 3,9;
= 100 нм;
= 120 нм;
= 2,66 мкОм*см;
= 4 мм. Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.
-
#
Одна ячейка наноэлектронной NOR флеш-памяти занимает площадь приблизительно
. Какую площадь (в кв. мм.) занимает при этом матрица NOR флеш-памяти на 256 Мбит? Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.
= 1,3, диэлектрическая постоянная среды
= 2,5. Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.
, а длина каждого домена
?
атомов и молекул. Сколько часов работы СТМ требуется для этого, если на перемещение одного атома (молекулы) и на контроль правильности перемещения в среднем затрачивается
секунд?
,
,
и
) и заданных напряжениях на затворах (
) и между истоком и стоком (
).
. Ответ введите с точностью до первого знака после запятой.
и
), толщины и удельного электрического сопротивления слоя металлизации (
и
) и длины межсоединения (
).
. Какую площадь (в кв. мм.) занимает при этом матрица NOR флеш-памяти на 256 Мбит? Ответ введите с точностью до второго знака после запятой.